集成电路制造工艺与模拟
控制号
3631914
责任者
孙晓东, 律博, 宋文斌编著
出版社
化学工业出版社
出版年
2025
ISBN
978-7-122-46537-5
可借数量
2
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集成电路制造工艺与模拟＝Integrated circuit manufacturing process and simulation／孙晓东, 律博, 宋文斌编著．—北京：化学工业出版社，2025
184页：彩图；26cm．—（“集成电路设计与集成系统”丛书）
有书目
本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。详细介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工；具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论，对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真，对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟；以NMOS器件为例，介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。
ISBN 978-7-122-46537-5：CNY89.00
Ⅰ．①集成电路制造工艺与模拟②Integrated circuit manufacturing process and simulation Ⅱ．①孙晓东②律博③宋文斌 Ⅲ．①集成电路工艺 Ⅳ．①TN405
184页：彩图；26cm．—（“集成电路设计与集成系统”丛书）
有书目
本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。详细介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工；具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论，对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真，对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟；以NMOS器件为例，介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。
ISBN 978-7-122-46537-5：CNY89.00
Ⅰ．①集成电路制造工艺与模拟②Integrated circuit manufacturing process and simulation Ⅱ．①孙晓东②律博③宋文斌 Ⅲ．①集成电路工艺 Ⅳ．①TN405
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馆藏地：
北馆5楼自然科学新书库(汇典楼五楼57排10架2层)
索取号：
TN405/S98
登录号：
A4321220
状 态：
可供出借
类 型：
中文图书
馆藏地：
北馆5楼自然科学新书库(汇典楼五楼57排10架2层)
索取号：
TN405/S98
登录号：
A4321221
状 态：
可供出借
类 型：
中文图书